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随着移动通讯系统的迅速发展,声表面波器件(SAW)使用频率不断提高,从最初的几MHz到现在的几GHz<[2]>,其线宽也进入亚微米、深亚微米阶段,如何制得精细的叉指换能器电极成为声表器件制作的关键.本文重点介绍采用具有比光学曝光设备更高精度的JBX 5000LS电子束光刻系统,利用电子束直写(EDBW)技术制造声表面波器件的技术.