【摘 要】
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电子束曝光机是半导体工业中的一个重要设备,为了充分研究加速电压对于电子束曝光的影响,高压透射电子显微镜被改造成电子束曝光系统.改造后的系统将用于研究加速电压和光刻
【出 处】
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第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会
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电子束曝光机是半导体工业中的一个重要设备,为了充分研究加速电压对于电子束曝光的影响,高压透射电子显微镜被改造成电子束曝光系统.改造后的系统将用于研究加速电压和光刻胶曝光特征之间的关系.由于高压透射电子显微镜的设计和曝光系统的结构有较大的差异,因此必须对前者进行较大的改造,如设计和加装图形发生器和精度工件台等,本文重点介绍仪器改造的方法.
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