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电子束曝光SAL-601(ER7)负性抗蚀剂主要用于凸立的精细线条图形制作,徐秋霞、刘明[1]等人已经成功地制备了线宽小于70nm的孤立线条(Isolated Line).本文重点研究小于50nm的孤立线条和精细线条(Density Lines)密集阵列图形的制备.
电子束曝光SAL-601负性抗蚀剂技术研究
【摘 要】
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电子束曝光SAL-601(ER7)负性抗蚀剂主要用于凸立的精细线条图形制作,徐秋霞、刘明[1]等人已经成功地制备了线宽小于70nm的孤立线条(Isolated Line).本文重点研究小于50nm的孤
【机 构】
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中国科学院微电子中心
【出 处】
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第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会
【发表日期】
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2003年期
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