投影光刻机相关论文
本文用部分相干光成像理论研究了提高分辨力及增大焦深的原理．建立了二元光栅倾斜照明成像数理模型。对几种倾斜照明方式进行了模拟......
阐述了照明光学系统在分步投影光刻机中的重要作用，介绍了当采用部分相干光照明时相干度对分辨率的影响，以及Ｋｏｈｌｅｒ照明中聚光镜像差对成像......
在霍普金斯（ Ｈｏｐｋｉｎｓ）理论的基础上， 对方孔的传统透射掩模、衰减相移掩模以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算......
本文针对目前亚半微米分步重复投影光刻机四极／环形离轴倾斜照明能量利用率低的缺点，设计了一种二元光学元件应用于离轴倾斜照明的系......
在以准分子激光为光源的步进扫描投影光刻机中,为了精确控制曝光剂量,需要用能量探测器实时、精确地监测单个激光脉冲的能量。研制......
前言采用接触式光刻机制作集成电路,这种光刻机的优点是装置简单,精度高;缺点是光照度均匀性差,硅片和掩模压紧曝光,二者容易划伤......
本文介绍一个数值孔径0.4、视场10×10mm~2可用于1:1分步投影光刻机的镜头的光学设计及其模型实验结果.光学设计在Wynne-Dyson的1:......
本文根据多年来的实验结果和工作经验,探讨在研制投影光刻精细线条的照明系统中,解决关于大照明面积、高照明均匀性、高象面照度及......
像质校正灵敏矩阵是像质校正算法中由像质参数计算像质校正参数的过渡矩阵。矩阵中的元素表征了像质参数随像质校正参数变化的灵敏......
