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光刻胶作为芯片的核心材料，对微电子技术的快速发展起着至关重要的作用，成膜树脂作为光刻胶的骨架组分，直接影响光刻胶的性能。本研究......
从化学元素、分子结构、光化学性能等方面，系统综述了7 nm分辨率极紫外光刻胶研究和应用新进展，展望了未来发展的方向、机遇与挑战。......
随着集成电路制程向着3 nm乃至1 nm推进,光刻胶作为集成电路制造中最为繁杂的光刻工艺所需的重要耗材,愈发显示其重要性及挑战性。......
光刻胶是半导体领域中不可或缺的关键材料。光刻胶行业常年被日本和美国等国家所垄断,随着国际竞争的日益激烈,光刻胶国产化迫在眉......
