ZrO2薄膜相关论文
本文采用正偏压作用下多弧离子镀与等离子体基离子注入相结合的复合沉积技术,通过改变气体流量、正偏压以及离子注入电压,在不同工......
二氧化锆薄膜由于具有较高的硬度、较好的耐磨损耐腐蚀性质、良好的化学稳定性和热稳定性以及优异的光学特性，使其在记忆材料、微电......
本论文主要工作分为两部分：第一部分是利用Leybold LAB600sp磁控溅射系统采用射频与直流磁控共溅射的方法制备了不同组分的Si-ZrO2......
采用DC反应磁控溅射工艺在K424合金基底上制备了ZrO2薄膜,并对薄膜进行了不同温度的热处理,采用XRD、SEM和EDS等分析手段对薄膜的......
ZrO2 薄膜样品在不同的沉积温度下用电子束蒸发的方法沉积而成。利用X射线衍射 (XRD)仪和原子力显微镜 (AFM)检测了ZrO2 薄膜的晶......
在电子束蒸发沉积制备ZrO2薄膜的过程中,采用石英晶体振荡法监控膜厚和沉积速率。用NKD7000分光光度计测量了ZrO2薄膜的折射率和膜......
分别采用电子束热蒸发技术和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了光学厚度相近的ZrO2单层薄膜,测试了两类薄膜的激光损伤阈值。分别采用......
采用电子束蒸发沉积制备了不同基底温度的ZrO2单层薄膜.计算了薄膜在三倍频处的折射率、消光系数,分析了基底温度对薄膜带隙的影响......
在单晶硅表面制得花生酸锆Langmuir-Blodgett薄膜,对该薄膜在500℃条件下热处理30 min,得到致密ZrO2薄膜.利用AFM,XPS,SEM对其结构......
为惯性约束聚变 (ICF)实验中利用光栅分光特性间接探测激光功率研究 ,制备具有高激光损伤阈值的光栅分光ZrO2 薄膜。采用水热法制......
采用直流反应磁控溅射工艺在25、300℃沉积温度下分别制备了ZrO2薄膜和YSZ薄膜。结果表明,沉积温度对ZrO2薄膜沉积速率的影响不大,......
期刊
采用准分子脉冲激光沉积法 (PLD)分别在Pt/Ti/SiO2 /Si和SiO2 /Si衬底上制备了ZrO2 薄膜 ,采用扩展电阻法 (SRP)研究了薄膜纵向电......
ZrO2是用于高抗激光损伤薄膜的重要材料,其结构及性能与沉积条件有很大关系。采用X射线衍射(XRD)技术分析了不同充氧条件和沉积温......
ZrO2薄膜具有折射率高、光谱透明范围宽、在可见光和近红外波段有低吸收和低散射等优点,被广泛用于光学薄膜领域。另外,这种材料还......
