【摘 要】
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深紫外线光刻技术利用KrF激光作为光源,该技术在半导体行业的应用已进入第10年。为满足行业对更高生产力的需求,KrF光源从早期的10W产品发展到以CymerELS-7010为代表的40W最
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深紫外线光刻技术利用KrF激光作为光源,该技术在半导体行业的应用已进入第10年。为满足行业对更高生产力的需求,KrF光源从早期的10W产品发展到以CymerELS-7010为代表的40W最新一代产品。就像前几代一样,输出光谱和剂量性能是随着照射工具的光学和分级技术的进步而改进,目前CD分
Deep UV lithography uses KrF lasers as the light source and has been in its 10th year of use in the semiconductor industry. To meet the industry’s need for higher productivity, KrF light sources have evolved from the early 10W products to the latest 40W products represented by the Cymer ELS-7010. As with previous generations, the output spectral and dose performance is improved with advances in the optical and grading technologies of irradiation tools. Currently, CD
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