【摘 要】
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Pulsed reactive sputtering is a novel process used to deposit some compound films, which are not deposited by traditional D.C. reactive sputtering easily. In t
【出 处】
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Journal of Materials Science & Technology
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Pulsed reactive sputtering is a novel process used to deposit some compound films, which are not deposited by traditional D.C. reactive sputtering easily. In this paper some experimental results about the deposition of Al oxide films by pulsed reactive sputtering are presented. The hysteresis phenomenon of the sputtering voltage and deposition rate with the change of oxygen flow during sputtering process are discussed.
Pulsed reactive sputtering is a novel process used to deposit some compound films, which are not deposited by traditional DC reactive sputtering easily. In this paper some experimental results about the deposition of Al oxide films by pulsed reactive sputtering are. sputtering voltage and deposition rate with the change of oxygen flow during sputtering process are discussed.
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