【摘 要】
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该文利用多种分析手段对制备的钒氧化物薄膜及退火后的钒氧化物薄膜的结构和成分进行了详细的研究.该文还利用傅立叶变换红外光谱仪对热色VO薄膜的光学性质进行了研究.主要结
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该文利用多种分析手段对制备的钒氧化物薄膜及退火后的钒氧化物薄膜的结构和成分进行了详细的研究.该文还利用傅立叶变换红外光谱仪对热色VO<,2>薄膜的光学性质进行了研究.主要结论如下：1、采用射频磁控溅射在熔融石英衬底上制备出高取向的VO<,2>（B）、V<,6>O<,13>、和V<,2>O<,5>薄膜,X-射线衍射表征显示了所有三种薄膜是单一相并且具有很强的（001）面平行于衬底的取向.2、采用射频磁控溅射在导电玻璃（ITO）上长出高取向的VO<,2>（B）薄膜和VO<,2>（B）+V<,6>O<,13>薄膜.单一相的V<,6>O<,13>薄膜可以从VO<,2>（B）+V<,6>O<,13>薄膜在真空中480℃退火得到.采用X-射线衍射（XRD）和X-射线光电子能谱（XPS）对钒氧化物进行了表征,发现钒氧化物薄膜的形成受衬底温度和退火时间的影响,因为衬底温度以及退火有利于进一步氧化.3、我们采用射频磁控溅射在熔融石英和普通玻璃衬底上沉积了VO<,2>薄膜.XRD图谱表明在两种衬底上沉积的VO<,2>薄膜都呈现（011）择优取向.沉积在熔融石英衬底上的VO<,2>薄膜沿着[011]方向被压缩而沉积在普通玻璃衬底上的VO<,2>薄膜沿着[011]方向被拉伸.4、我们报道了采用射频（RF）磁控溅射在各种条件下制备的VO<,2>薄膜的喇曼散射.
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