【摘 要】
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SU-8是一种负性近紫外厚光刻胶,它光敏性好,深宽比大,侧壁陡直,抗腐蚀,适用于微机电系统,UV-LIGA和其他厚膜超厚膜应用.该论文研究了衬底类型,基片预处理,前烘温度和时间,曝
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SU-8是一种负性近紫外厚光刻胶,它光敏性好,深宽比大,侧壁陡直,抗腐蚀,适用于微机电系统,UV-LIGA和其他厚膜超厚膜应用.该论文研究了衬底类型,基片预处理,前烘温度和时间,曝光时间,中烘温度和时间,显影方式等工艺参数对SU-8光刻胶图形质量的影响.DEM技术是一种价格低廉的准LIGA技术,该论文研究了DEM技术中利用反应离子刻蚀工艺深层刻蚀塑料PMMA的工艺.另外,该文还利用DEM技术和SU-8做出了高200μm的微流量计和微透镜,证明这两种工艺是可行的.
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