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来源 :第十三届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
作为介电材料在半导体器件中应用的典型代表,栅介质研究已经历了几十年的时间,然而,作为MOS或MIS器件栅介质应用的介电材料大多为非极性介电材料,主要利用了其绝缘特性,为器件
【作 者】
:
刘兴钊
陈超
田本朗
张万里
李言荣
【机 构】
:
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都市建设北路二段四号,610054
【出 处】
:
第十三届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
:
2012年期
【关键词】
:
介质极化
AlGaN
GaN器件
性能
介电材料
栅介质
特性的控制
半导体器件
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