【摘 要】
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采用分子动力学方法模拟了MgO分子连续沉积于MgO(001)表面上的薄膜生长过程,分析了衬底温度和分子入射能对MgO分子在衬底表面上的扩散能力以及对衬底表面覆盖率的影响。模拟
【机 构】
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东北大学理学院,沈阳,110004
【出 处】
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2008中国材料研讨会—计算材料分册
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采用分子动力学方法模拟了MgO分子连续沉积于MgO(001)表面上的薄膜生长过程,分析了衬底温度和分子入射能对MgO分子在衬底表面上的扩散能力以及对衬底表面覆盖率的影响。模拟结果表明,随着衬底温度的升高,在衬底表面上沉积的MgO分子扩散能力增强,MgO薄膜层中空位缺陷变少。低温下,分子入射能的增大有助于提高衬底表面覆盖率;高温下,表面覆盖率随入射能增大到3.0 eV时达到最大值,入射能继续增大,表面覆盖率减小。
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