公开号　ＣＮ１１８８８１７Ａ　　申请人　ＭＥＭＣ电子材料有限公司　　地址　美国密苏里州　　一种用于清洗硅体和可控地降低覆盖在硅基底上的二氧化硅厚度的......

集成光学亚微米光栅的原子力显微镜表征＊李燕徐迈（中国科学院激发态物理开放研究实验室，长春１３００２１）（中国科学院长春物理研究所，长春１３００２１）张玉书（集成......

设计并制作了一种基于激光直写工艺的多模高聚物1×8光功率分配器。该器件采用了独特的次级非对称结构实现了光功率在各个输出......

在离子蚀刻预处理及磁控溅射镀过渡镍层之后,在TC4钛合金上制备了结合力良好的镍−碳化硅复合镀层。扫描电镜表征及摩擦磨损测试的......