电子束曝光机相关论文
本文主要内容共6章.第一章简单介绍了电子束曝光技术的背景知识,包括国内外电子束曝光技术的发展过程和趋势、电子束曝光机以及图......
介绍了基于扫描电镜的电子束曝光机的对准软件设计,详细分析了此类曝光机对准系统的设计方案,软件设计结构以及扫描场的校正过程.......
数据格式转换软件是电子束曝光机不可缺少的辅助工具。本课题的主要任务是研制与新型图形发生器相匹配的数据格式转换软件。该软件......
本论文主要介绍了图形发生器软件系统中，涉及曝光功能的软件部分的研究。 论文分析了国内外电子束曝光技术的发展和图形发生器的......
研究了电子束曝光机图形数据格式转换软件的分割、压缩算法 ,针对传统的图形数据分割、压缩算法存在的主要缺点 ,提出了新的分割算......
提出了一种应用于电子束曝光机束流测量中的自动跟踪工频陷波器，给出电路结构，基于对其工作原理的分析，介绍了提高陷波器跟踪精度的设......
利用电子束曝光机完成有关邻近效应的实验.曝光过程中加速电压为5～30 kV,衬底基片为铬和PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯).在处理模拟电子穿......
论述了电子束扫描正交图形簇产生畸变的非线性校正过程.通过几种典型的图形分析研究,推导出有关的校正函数,并运用计算机进行了该......
在一种新的电子束曝光机二次曲线单元图的基础上定义了一种中间图形数据格式。该数据格式是为了将版图制造业标准数据格式转换为电......
介绍了亚微米电子束曝光机光路与结构设计，该电子光学系统采用透镜内偏转设计，系统象差小，偏转灵敏度高，工件面上电流密度大，通过调试和......
介绍了一个输出电压为１０４Ｖ，开关时间为３４ｎｓ的电子束曝光机束闸电路。...
电子束曝光机版图切割过程中可能出现带内孔的多边形 ,并且多边形内环与外环之间可能发生重叠。针对这种多边形 ,提出了新的基于矢......
详细介绍了在透射电镜上进行缩小投影电子束曝光技术原理性实验的主要调试过程.它充分利用了透射电镜本身的功能与特点.整个调试方......
介绍了新研制的以PC微机为控制机的电子束图形数字控制器的接口、结构、基本功能以及设计中应注意的主要环节.......
DY2001A型电子束曝光机是作为实用化的小型曝光系统而研制的.从设计角度详细阐述了DY2001A型电子束曝光机软件系统的构成,包括数据......
提出一种新型的电子束曝光数据格式,引入了面向对象的设计和适应于矢量型电子束扫描方式的设计,提高了对通用图形数据格式转换的精......
以前的传输片机械手由于采用双浮动滑板结构来实现各个状态的定位,长时间使用易导致机械磨损、弹簧应力疲劳等,出现机械手碰撞片夹......
为使亚微米电子束曝光机的高速偏放系统寻址率达到6MHz，噪声小于200μV的技术指标，从偏转放大器的设计、信号传输、D／A转换和系统的屏......
为满足纳米级电子束曝光系统的要求,设计了高速图形发生器,该图形发生器包括硬件和软件两部分.硬件方面主要是利用高性能数字信号......
提出了一套功能较为完备的新型扫描电子束曝光机图形发生器的硬件设计方案.方案采用TMS320C6713芯片作为核心单元,并由USB2.0接口......
由于电子束曝光机采用的修正技术,工件台的测量系统显得十分重要.介绍了电子束曝光机激光定位精密工件台的工作原理,其测量系统首......
以SDS—3电子束曝光机的聚焦透镜系统为基础，在0．005弧度半张角，3×10^-5的高压纹波，50mm的像距，30×30mm扫描场的条件下，研究了......
介绍了电子柬曝光技术的原理。根据精密工件台对测量系统的需要，设计了三轴工件台测量系统布局方式，并简单介绍了激光干涉测量系统所......
介绍了nm级电子束曝光机激光定位精密工件台系统的结构组成、各部分技术措施及总体性能指标。该工件台采用HP5527激光干涉测量系统......
通过对MEBES4700S电子束曝光机不同图形曝光模式特性的比较和分析，得到其在160MHz和320MHz曝光像素频率和不同设计栅格尺寸下的适用......
<正> 1、引言 上一讲已经说明了组成电子光学镜筒的若干部件的特性。这个电子光学分系统加上样品工件台,电子束控制电路,计算机和......
为保证电子束曝光机用高压电源既有高静态精度,又有高动态稳定性,采用直接调整和间接调整相结合的复合调整方案,同时采用集中补偿......
我们改装了日立5530型扫描电子显微镜，使之具有外控电子束偏转功能。通过计算机控制实现电子束曝光。根据电子束制备图形的要求，我们......
本论文介绍了扫描电子束曝光机图形发生器的总体方案、系统设计、硬件实现和软件编程等，提出了一套完整的图形发生器硬件方案，并完成......
电子束曝光机的偏转系统控制电子束偏转扫描。像差低、偏转灵敏度高、扫描速度快是它的基本要求。对各种偏转器、偏转方式进行分析......
集成电路产业是现代信息产业的基础,是改造和提升传统产业的核心技术。随着微细加工技术的进步,集成电路的特征线宽进入到深亚微米......
本文综合分析了影响电子束曝光机加工精度的各种误差的来源与类型，误差的影响与估算．以及误差的综合与数据处理。
This article com......
<正> 一、我国光掩模技术的发展回顾我国的光掩模制作始于60年代中期,比国外晚5～6年。当年采用传统的照相术及手摇光刻机开展工作,......
介绍了用于新型电子束曝光机的30 kV精密高压稳压电源。该电源系统采用了直接调整和间接调整相结合的双闭环调整方案,采用了集中补......
