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金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长GaN基化合物半导体薄膜,是制备大功率微电子器件和LED等光电器件的关键工艺。在MOCVD生长GaN过程......
采用紫外光谱法研究了Ni[S2P(OCH2CH2Ph)2]2与4-甲基吡啶的加合反应,测定了反应的平衡常数:β1=39.5(R1=1)和β2=2.20×104(R2=0.9......
用光谱法研究了Ni[(C4H9O)2PS]2与咪唑、邻菲咯啉在乙醇溶液中的加合反应,测定了反应的平衡常数lgβn及加合分子数n,在32℃时,与咪唑......

