【摘 要】
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日本研究和发展公司已找到在低压和低温下制作集成电路用的金刚石薄膜的方法。该公司已生产出一批商用产品,并改进了涂敷的均匀性。这种金刚石具有与天然金刚石完全相同的质
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日本研究和发展公司已找到在低压和低温下制作集成电路用的金刚石薄膜的方法。该公司已生产出一批商用产品,并改进了涂敷的均匀性。这种金刚石具有与天然金刚石完全相同的质量。在0.1个大气压下对甲烷和氢的气体混合物加微波,即可制成这种金刚石。
Japanese research and development company has found a method of making diamond films for integrated circuits at low pressure and low temperature. The company has produced a number of commercial products and improved coating uniformity. This diamond has exactly the same quality as natural diamond. This diamond can be made by applying microwaves to the gas mixture of methane and hydrogen at 0.1 atmosphere.
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