【摘 要】
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α-Ti3O5是TiOx材料中相对较稳定的晶型,是一种潜在的氧敏材料.与传统的TiO2、ZrO2材料相比,具有阻温特性好的优点.本文通过H2还原TiO2来制备α-Ti3O5薄膜,研究了不同还原温
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院上海硅酸盐研究所,天津大学材料学院 上海200050,上海200050,上海200050,天津300072
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α-Ti3O5是TiOx材料中相对较稳定的晶型,是一种潜在的氧敏材料.与传统的TiO2、ZrO2材料相比,具有阻温特性好的优点.本文通过H2还原TiO2来制备α-Ti3O5薄膜,研究了不同还原温度和保温时间对薄膜晶相组成的影响以及薄膜的导电性、电阻-温度稳定性和在氧化气氛中的晶格稳定性.同时对α-Ti3O5薄膜的氧敏性能进行了初步研究.
α-Ti3O5 is a relatively stable crystalline form of TiOx, which is a potential oxygen sensitive material.Compared with the traditional TiO2, ZrO2 material, α-Ti3O5 has the advantage of good resistance to temperature.In this paper, α- Ti3O5 thin films, the effects of different reduction temperature and holding time on the crystalline phase composition, the electrical conductivity, the resistance-temperature stability and the lattice stability in the oxidizing atmosphere were studied. The oxygen sensitivity of α-Ti3O5 thin films Conducted a preliminary study.
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