【摘 要】
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InP MISFET及有关的高速低功耗逻辑集成电路已受到越来越大的注意.本文介绍了这方面的发展现状、工艺制造及目前达到的性能等.对工艺制造中的核心部分——绝缘层生长作了重点
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InP MISFET及有关的高速低功耗逻辑集成电路已受到越来越大的注意.本文介绍了这方面的发展现状、工艺制造及目前达到的性能等.对工艺制造中的核心部分——绝缘层生长作了重点介绍.最后提出了作者的几点看法.
InP MISFET and related high-speed and low-power logic integrated circuits have drawn more and more attention.This paper introduces the current development in this area, process manufacturing and current performance, etc. The core of the manufacturing process - insulation Growth made a key introduction.Finally put forward the author’s views.
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