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【摘 要】
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采用脉冲激光烧蚀氮化碳薄膜靶,在室温至450℃基片温度下制备了CNx薄膜.利用扫描电镜、X射线衍射仪、X射线光电子谱仪和拉曼光谱仪等对薄膜的形貌、结晶性和结合键状态进行了
【机 构】
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浙江工业大学机械工程学院 杭州310014
【出 处】
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真空科学与技术学报
【发表日期】
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2013年4期
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