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在用等离子发射光谱技术监测大规模集成电路等离子刻蚀过程及科点时，为有效地抑制本底光对监测结果的影响，作者采用了双波长法和具有采样跟踪滤波器的锁相技术，从强光背景中提取了反映等离子刻蚀过程的微弱等离子谱信号。
等离子刻蚀过程中的微弱信号提取与终点监测
【摘 要】
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在用等离子发射光谱技术监测大规模集成电路等离子刻蚀过程及科点时，为有效地抑制本底光对监测结果的影响，作者采用了双波长法和具有采样跟踪滤波器的锁相技术，从强光背景中提取
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械研究所
【出 处】
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数据采集与处理
【发表日期】
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1998年a10期
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