【摘 要】
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脉冲激光沉积是一种新型沉积工艺，跟其它沉积工艺相比它具有许多的优点，这是因为在沉积过程中其靶材料的相对原子浓度可保持不变，从而可制备出理想配比的沉积薄膜。本文介绍了采
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脉冲激光沉积是一种新型沉积工艺，跟其它沉积工艺相比它具有许多的优点，这是因为在沉积过程中其靶材料的相对原子浓度可保持不变，从而可制备出理想配比的沉积薄膜。本文介绍了采用这种脉冲激光沉积工艺制备而成的新型ＺｎＯ：Ｇａ透明导电薄膜，以及Ｚｎ－Ｇａ２Ｏ４和Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｔｂ荧光薄膜。
Pulsed laser deposition is a new type of deposition process that offers many advantages over other deposition processes because the relative atomic concentration of its target material can be kept constant during deposition to produce a stoichiometric deposition film. In this paper, a novel ZnO: Ga transparent conductive film and Zn-Ga2O4 and Y3Al5O12: Tb fluorescent films prepared by this pulsed laser deposition process are introduced.
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