【摘 要】
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采用先进的中温化学气相沉积工艺技术 (MT CVD)和高温化学气相沉积工艺技术 (HT CVD)相结合 ,研究开发的TiN Ti(CN) Al2 O3 TiN超级涂层材料 ,是 2 0世纪 90年代末期才问世
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采用先进的中温化学气相沉积工艺技术 (MT CVD)和高温化学气相沉积工艺技术 (HT CVD)相结合 ,研究开发的TiN Ti(CN) Al2 O3 TiN超级涂层材料 ,是 2 0世纪 90年代末期才问世的新技术。与已往的涂层材料相比 ,这种超级涂层厚度可以达到 1 0～ 1 5 μm ,涂层组织致密并呈柱状结晶
The TiN Ti (CN) Al 2 O 3 TiN super coating material developed by the combination of advanced medium temperature chemical vapor deposition (MT CVD) and high temperature chemical vapor deposition (HT CVD) technology was developed in the late 1990s The advent of new technologies. Compared with the previous coating materials, this super coating thickness can reach 10 ~ 15μm, the coating is dense and columnar crystals
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