Ⅲ-Ⅴ族化合物外延中的新工艺

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鉴于我国半导体事业的发展日新月异,急需介绍和引进国外半导体新技术.以资借鉴,为此,从1985年第5期起,本刊开设“国外技术之窗”新栏目.该栏目将刊登国外有关半导休技术的新理论、新工艺、新器件、新材料、新设备、新的检测方法及器件的新应用等方面的资料.为了尽快地向读者介绍国外最新成果和发展动态,本栏目将主要安排综述、编译、摘译、简讯等文章,也少量地刊登会议、展览会介绍、新产品及专利报导等短文.我们欢迎广大读者踊跃投稿并提批评性意见,以使本栏日臻完美. In view of the ever-changing development of China’s semiconductor industry, the urgent need to introduce and introduce new technologies in foreign semiconductors.In order to draw lessons from this, starting from the fifth of 1985, the magazine opened a “foreign technology window” a new column.This column will be published abroad Semiconductor technology, new technology, new technology, new devices, new materials, new equipment, new detection methods and new applications of devices and other information.In order to introduce readers to the latest foreign achievements and developments as soon as possible, this section will be Mainly arrange reviews, compilation, translation, newsletters and other articles, but also a small amount of published conferences, exhibitions, new products and patent reports and other essays.We welcome the readers actively submit and submit comments, in order to improve the column perfection.
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