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在超高真空室中,作者使用质谱、X-(XPS)、紫外(UPS)光电子分光光谱对室温时1,3-二硅代丁烷(DSB)在Si(lll)面上的吸附位特性和分解机理进行了研究.
1,3-二硅代丁烷在Si(111)-7×7面上的吸附与分解
【摘 要】
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在超高真空室中,作者使用质谱、X-(XPS)、紫外(UPS)光电子分光光谱对室温时1,3-二硅代丁烷(DSB)在Si(lll)面上的吸附位特性和分解机理进行了研究.
【机 构】
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山东大学
【出 处】
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山东大学
【发表日期】
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1999年期
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