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本文选择目前国内外研究最多的纳米硅/硅氧化物系统中光发射作为研究对象，采用射频磁控溅射的方法生长富硅的二氧化硅薄膜，经过高温退火自组装生长纳米硅颗粒，并对其发光和光学性质进行研究。
第一部分：简要介绍研究硅基薄膜发光的意义，并介绍实现硅基发光的有效途径和多空硅和纳米硅器件，以及国内外的研究进展。
第二部分：对实验使用的系统和对薄膜生长的热力学原理进行简单分析。着重介绍采用射频磁控溅射的方法生长薄膜的实验过程以及实验的基本结果分析。
第三部分：主要讨论了含纳米硅二氧化硅薄膜的发光特性与光学非线性特性，并对产生该特性的物理原因进行深入分析解释。