几种方酸菁染料化合物的光电化学研究

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方酸菁染料作为一类新型的强有机荧光染料,它具有一个方酸内核中心,两端是对称或者不对称的共轭结构,骨架为共振稳定的两性结构,这类染料在可见和近红外波段范围内具有强的吸收光谱和荧光光谱。已报道的文献对其电学性质研究不多,本论文侧重对几种方酸菁染料化合物的光电化学性质进行了研究。首先研究了N,N二甲基苯胺取代方酸菁(BDPSQ)的电致化学发光行为;然后研究了吲哚取代方酸菁(Ind-SQ)电催化降解的性质,并对其降解机理进行了探讨;最后研究了瓜环与二茂铁类物质的主客体作用。本论文包括四章。第一章对方酸菁、电致化学发光、瓜环超分子在分析化学等领域的研究背景、研究现状以及应用等方面进行了简单总结,并阐述了三者之间的关联性,基于此提出了本论文的选题思路和研究内容。第二章研究了N,N二甲基苯胺取代方酸菁(BDPSQ)氯仿溶液在Pt电极上的电致化学发光行为,发现BDPSQ在0.87V与1.25V电位处存在两对氧化还原峰,可归属为BDPSQ苯胺部分的两步氧化还原过程,进而通过对BDPSQ的荧光光谱和ECL光谱对比分析以及对其不同的合成材料、溶剂等进行ECL分析,推测了BDPSQ可能的ECL机理。第三章采用循环伏安法和方波伏安法对吲哚取代方酸菁(Ind-SQ)的电化学性质进行了研究,发现在0.50V和0.75V电位处存在两对氧化还原峰。通过控制电位电解,采用紫外可见光谱法对Ind-SQ的电解产物进行研究,研究Ind-SQ紫外吸收光谱发现了其特征吸收峰强度降低并出现新的吸收峰。其次通过原位傅里叶变换红外光谱对正电位条件下电解进行了研究,根据红外谱图特征化学键的变化,并通过量化计算进行验证,进而推测了Ind-SQ的电催化降解机理,此实验结果为水环境治理中染料类污染物的处理提供了理论依据与实验手段。第四章研究了二茂铁衍生方酸菁(FcSQ)、二茂铁联吡啶钌(FcIP)和七元瓜环的主客体作用。通过研究吸收光谱和发射光谱,发现不能通过光谱方法研究它们之间的主客体作用。随后研究了七元瓜环与二茂铁甲醇的作用,通过CV中氧化还原峰的位置以及峰电流值的变化,验证了主客体作用现象的存在,进而利用二茂铁甲醇对Ru(bpy)32+/TPrA ECL体系的焠灭作用,通过ECL手段研究主客体作用,发现,七元瓜环增强了焠灭的作用,并推测了其可能的原因。
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