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来源 :中国科学院大学 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
InAsSb作为一种Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料,其具有带隙窄、电子迁移率高和稳定性好等特点,在微电子和红外探测领域有很大的应用前景。但是,高质量InAsSb外延膜的生长是比较困难的
【作 者】
:
孙庆灵
【机 构】
:
中国科学院大学
【出 处】
:
中国科学院大学
【发表日期】
:
2016年期
【关键词】
:
分子束外延
铟砷锑材料
组分控制
表面形貌
电学性能
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