本文报道了通过光刻技术生成多孔硅微阵列，并对多孔硅徼阵列进行了一系列检测分析。说明光刻技术可以应用于多孔硅徼阵列的制备。以及一种锌荧光探针的多孔硅表面修饰及荧光增强效应的研究。主要研究工作可分为以下两部分概述：　　 1.利用光刻技术生成多孔硅徼阵列首先。利用旋涂法在干燥清洁的硅片上均匀生成一层光刻胶膜，并通过软烘达到初步坚膜的目的；接着在接触式光刻机上，盖上掩模版进行接触式曝光，再经过显影，洗涤生成想要的光刻胶图案，然后通过硬烘达到坚膜的目的。使用了光学显徼镜和台阶仪对生成的光刻胶膜进行了检测。之后进行将已经图案化的硅片放入HF/DMF溶液中进行电化学腐蚀生成多孔硅微阵列，并使用荧光显微镜进行了检测。　　 2.一种新型锌荧光探针的多孔硅表面修饰及荧光增强效应研究偶然发现了DVBP在1,4-二氧六环溶液中具有比例计量型荧光探针的特性，并对其进行了一系列的荧光增强效应的研究。之后将DVBP固定在PS表面，并研究了其荧光增强效应。本实验分为三步：(1)通过一系列有机合成反应，合成了DVBP;(2)研究了DVBP在溶液中对于Zn2+的荧光增强效应，推测了其分子的螯合机制。并进行了定量研究;(3)将干燥洁净的硅片放入HF/EtOH溶液中，进行电化学腐蚀生成多孔硅。再将新腐蚀的多孔硅放入含有DVBP的1,4-二氧六环溶液中进行微波反应，生成DVBP修饰的多孔硅表面，之后螯合锌离子;(4)对以上表面进行了荧光表征。并对比了DVBP在溶液中和固定在PS表面的荧光增强效果。　　 说明了将DVBP固定在PS表面后，得到了更强的荧光增强效应，并可以对Zn2+进行定量响应。为荧光探针的应用研究提供了新的思路