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该研究以GaN基材料的结构特性为主要研究内容,利用X射线衍射技术分析了GaN及其合金外延层的基本结构特性,进而建立了定量的评价体系,并探索了结构特性参数与外延工艺、光电特性之间的规律性联系.
氮化镓基材料的结构特性研究
【摘 要】
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该研究以GaN基材料的结构特性为主要研究内容,利用X射线衍射技术分析了GaN及其合金外延层的基本结构特性,进而建立了定量的评价体系,并探索了结构特性参数与外延工艺、光电特
【机 构】
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中国科学院半导体研究所
【出 处】
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中国科学院半导体研究所
【发表日期】
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2001年期
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