MBMI技术TiN膜的工艺、结构及性能研究

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文章介绍了多束动态混合注入(MBMI)设备及技术特点,利用MBMI技术制备超厚(35μm)高结合力(5600f)TiN膜,并对TiN膜进行了XRD、SEM、扫描电子能谱分析,结果显示,MBMI技术TiN膜具有致密而无空洞的膜-基界面,在N<+>注入作用下,TiN膜呈现各向均匀生长,所以避免了因择优生长而导致的随膜厚增长而造成的表面粗化,为制备TiN厚膜提供了保证.此外,对MBMI技术TiN膜的硬度、耐腐蚀性作了式,结果显示,用N<+>注入与多弧离子镀动态混合制备的TiN具有非常好的耐3%Nacl和0.5mol H<,2>SO<,4>溶液腐蚀特性;TiN膜的硬度在HK200-HK4000之间.
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