光学薄膜元件的光性测量技术是光学薄膜的一个重要研究内容。现在光学薄膜元件光性测量最常用的仪器是分光光度计，但现在一般的分光光度计在测量时有一些局限性，并不能完全满足测量的要求。本文就实际测量中的一些需要对现有商业化的分光光度计测量方法提出了一些改进。　　 本文针对常规分光光度计不能测量带角度反射的局限性，在实验室现有的Lambda900的基础上，自行设计并制作了两套用于测量45°绝对反射的测量附件，一套用于绝对高反射率的测量，一套用于绝对低反射率的测量，满足了现在常用的45°下使用薄膜的测量要求。并且这两套45°绝对反射测量附件具有小巧，使用方便等特点。　　 现有的分光光度计的样品台一般都比较小，只能测量尺寸比较小的样品。对于一些特殊的样品，如一些大型光学系统中使用的一些大口径光学薄膜样品，常用的分光光度计则无能为力。现在使用的测量大口径光学薄膜样品的测量方法一般是测量控制片或者是陪镀片的光性，从而推算出大口径光学薄膜样品的光性。这是一种间接测量的方法，并不是直接测量。大型光学系统使用的大口径光学薄膜的要求很高，一块光学薄膜的性能就会影响整个光学系统的整体性能。因此，实现大型光学系统用大口径光学薄膜样品的直接测量很有必要。本文针对这种情况，在分光光度计Lambda9的基础上，重新设计并研制了一个能够测量大口径光学薄膜元件光性的测量系统。在保持分光光度计Lambda9精度的基础上，本测量系统的所能够测量的最大样品尺寸为600mm*400mm，并可以实现扫描测量。　　 在研制大口径光学薄膜元件光性测量装置过程中，需要一种超宽光谱的减反射薄膜。根据这种情况，本文根据渐变折射率理论计算出了一种超宽光谱的减反射薄膜，与传统的基于干涉原理的宽带减反射薄膜相比，基于渐变折射率的超宽带减反射薄膜的带宽要大的多。本文还研制了能够制备渐变折射率薄膜的倾斜沉积(Glancing angle deposition)装置。利用倾斜沉积技术，制备出了设计的基于渐变折射率的超宽减反射薄膜，这种薄膜在400nm-1200nm波段范围内的反射率低于0.8％。，达到了国际先进水平，同时也可以提高大口径光学薄膜光性测量装置的性能。