TeO<,2>单晶因其具有很高价值的声光质量和品质因素,在声光调制器、声光偏转器、声光滤波器等方面有着广泛的应用.尤其是近年来声光调制器和声光滤波器在光计算、光通讯和光显微成像等技术中应用的不断发展,对TeO<,2>晶体质量的要求愈来愈高.与下降法相比,提拉法生长工艺具有进一步提高TeO<,2>晶体质量的潜力.因此采用提拉法研究生长高质量的TeO<,2>单晶具有十分重要意义.该工作是上海市教委重点学科研究项目(特种晶体材料产业化中试)中的重要研究内容.该文主要研究了TeO<,2>原料合成与晶体生长工艺,探索了晶体缺陷的形成机理,讨论分析了TeO<,2>单晶生长的工艺参数对晶体缺陷的影响.主要研究结果如下:1.提出了TeO<,2>干法合成的设计思想,并对制备工艺及其装置进行了专门的讨论,比较了各种实验装置的优点及其缺点,并根据实际操作所得到的经验,提出了自己最佳的设计方案.2.基于晶体生长理论,推导了温度梯度、晶体提拉速率及晶体直径与籽晶旋转速率之间的定性关系,采用有限元模拟,分析了TeO<,2>生长电阻炉的温场分布,为炉体结构设计提供了依据.3.研究了直拉法TeO<,2>晶体中位错、包裹物等主要缺陷的形成机理,讨论分析了TeO<,2>单晶生长的工艺参数对晶体缺陷的影响.