本文发展了一种周期微纳结构加工新方法-微透镜列阵投影成像光刻方法,它是以微透镜列阵为投影物镜,将毫米至厘米量级的成像物体缩小上千倍成像,从而光刻制备亚微米至微米特征尺寸的周期微纳结构。微透镜列阵投影成像光刻技术系统结构简单,无需复杂的部件,成像物体制备简易；单次曝光可获得亚微米特征尺寸、几十平方厘米面积的周期微纳结构,曝光时间仅为几秒至几分钟:该研究可为大面积周期微纳结构的低成本、高效率制备提供有效途径。　　 本文所研究的主要内容包括:(1)系统地分析了衍射、离焦等物理效应对微透镜列阵成像光刻图形质量的影响,深入地研究了核心元件微透镜列阵的设计方法,优化设计了微透镜列阵,并对其成像性能进行了分析；同时深入地研究了微透镜列阵的制备方法,利用不同的方法制备了大数值孔径、高面形精度、高成像质量的微透镜列阵。(2)系统地研究照明系统、调焦对准系统的设计方法,成功地研制了照明系统、调焦系统,解决了均匀照明问题及调平调焦问题,并将微透镜列阵投影成像系统进行了整体集成,使得该技术设备化。(3)基于微透镜列阵投影成像光刻系统,开展了周期微纳结构制备实验,实验制备了亚微米特征尺寸、大面积的任意形状周期微纳结构,得到了预期的实验结果。