不同电参数条件下铝、镁合金微弧氧化陶瓷研究

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微弧氧化表面处理过程伴随着复杂的物理、化学和电化学反应,而这些反应受到溶液体系、电参数条件、处理温度等诸多因素的影响,其中脉冲电源的电参数条件是主要的影响因素之一。本文利用自行研制的MAO系列微弧氧化电源设备,制备了不同电参数条件下的铝、镁合金微弧氧化陶瓷层。通过实验结果的比较和分析,探讨了电流密度、频率、占空比、正负脉冲个数等电参数条件对氧化陶瓷层性能的影响。论文的主要研究结果如下: 1.铝合金陶瓷层的厚度随着电流密度的增大而增加,施加负脉冲可降低陶瓷层的生长厚度和陶瓷层表面粗糙度;当负脉冲个数为2和4时,陶瓷层对电解质的阻挡作用强,可降低腐蚀速度,提高其耐蚀性。 2.铝合金微弧氧化陶瓷层主要由α-Al2O3、γ-Al2O3以及δ-Al2O3组成。其中具有紧密结构和高硬度的α-Al2O3相是提高陶瓷层硬度的主要相。 3.镁合金陶瓷层生长过程中,在较高频率下制备的陶瓷层表面粗糙度较小;高频下,占空比越大陶瓷层的粗糙度也越大。 4.镁合金微弧氧化陶瓷层较阳极氧化膜层具有较高的耐蚀性。微弧氧化处理后,试样在3.5%NaCl溶液中的腐蚀电流较阳极氧化处理试样的腐蚀电流低近3个数量级。
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