配位催化硅氢化机理和应用

来源 :第十三届中国有机硅学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:aeo55121891
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本文讨论了几种常见的硅氢化机理,如Chalk-Harrod机理、改进的Chalk-Harrod机理、金属胶体催化硅氢化机理和硅基迁移机理.根据这些机理,阐述了有机硅化合物合成和有机硅材料加成硫化时,硅烷化合物、不饱和化合物、溶剂添加助剂和氛围对硅氢化反应的影响。
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