真空系统中使用的各种材料，由于加工、清洗存储、装配环节中存在有机物残留，使得材料表面有污染物质。这些污染物质会在真空中再次脱附释放出来，释放出来的污染物不仅会污染真空系统，还会导致某些器件性能的下降，因此材料表面的污染物的检测具有重要意义。质谱分析法是用来分析表面污染物的一种有效方法，它具有分析速度快、灵敏度高等优点，是测定相对分子质量、分子的化学式以及分子结构的重要手段。目前已经出现了许多常温常压下的直接离子化质谱技术，建立了各具特色的样品快速质谱分析方法。按原理可以分为三类：基于喷射装置的常压直接离子化技术，基于放电的常压直接离子化技术，基于热能或激光辅助解吸的常压直接离子化技术。上述方法都是在大气下将样品进行电离，然后再将离子信号引入质谱系统，这大大增加了装置的复杂程度，不利于现场分析。