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本文探讨了AlN膜和渐变Al-AlN选择性吸收涂层的中频溅射技术，研究结果表明：增大铝靶电流或减小氩气流量有助于改善AlN反应溅射的工艺稳定性；随着氮气流量的增加，AlN膜的氮铝原子比增大，增大氩气流量或减小铝靶电流使AlN膜成分更难满足理想化学计量比要求；AlN膜的致密性随着氮气流量和铝靶电流的增大而得到改善，但氩气流量对AlN致密性没有明显影响；制备的渐变Al-AlN选择性吸收涂层可见光反射率低于6％，具有很好的光谱选择性。