【摘 要】
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由于薄膜材料在工业中的广泛应用和MEMS的深入发展,薄膜材料的各种力学性能就显得非常重要.本文以等离子增强化学气相沉积法(Plasma-EnhancedChemicalVaporDeposition)制备的
【机 构】
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北京航空航天大学理学院物理系,北京,100083中国科学院力学研究所非线性力学国家重点实验室,北京,100080
【出 处】
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2005年全国材料科学与工程学术会议
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由于薄膜材料在工业中的广泛应用和MEMS的深入发展,薄膜材料的各种力学性能就显得非常重要.本文以等离子增强化学气相沉积法(Plasma-EnhancedChemicalVaporDeposition)制备的氢化钠米硅(nc-Si:H)薄膜为例,用纳米压痕法研究了其不同的制备工艺参数对力学性质的影响。
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