【摘 要】
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磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta由磁控溅射方法制备.采用角分辨X射线光电子能谱(XPS)研究了反铁磁(NiO)/铁磁(NiFe)界面,结果表明在NiO/NiFe界面发生了化学反应:NiO+Fe=Ni+FeO和3N
【机 构】
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北京科技大学材料物理系,北京,100083
【出 处】
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2005年全国材料科学与工程学术会议
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磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta由磁控溅射方法制备.采用角分辨X射线光电子能谱(XPS)研究了反铁磁(NiO)/铁磁(NiFe)界面,结果表明在NiO/NiFe界面发生了化学反应:NiO+Fe=Ni+FeO和3NiO+2Fe=3Ni+Fe2O3,此反应深度约为1～1.5nm.反应产物将影响NiO对NiFe的交换耦合.本研究还表明角分辨XPS是用来表征磁性多层膜界面化学状态的一个有利工具。
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