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Ge-SiO2纳米半导体颗粒膜在发光、激光、光开关、光通信等方面的应用极为广泛.本文针对Ge-SiO2纳米半导体颗粒膜的发光特性,对Ge-SiO2纳米薄膜的制备技术、影响其发光特性的因素及其发光机理的新的研究进展进行了综述.
Ge-SiO2纳米半导体颗粒膜发光特性研究的新进展
【摘 要】
：
Ge-SiO2纳米半导体颗粒膜在发光、激光、光开关、光通信等方面的应用极为广泛.本文针对Ge-SiO2纳米半导体颗粒膜的发光特性,对Ge-SiO2纳米薄膜的制备技术、影响其发光特性的
【机 构】
：
太原科技大学,太原,030024
【出 处】
：
国际材料科学与工程学术研讨会
【发表日期】
：
2005年期
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