切换导航
文档转换
企业服务
Action
Another action
Something else here
Separated link
One more separated link
vip购买
不 限
期刊论文
硕博论文
会议论文
报 纸
英文论文
全文
主题
作者
摘要
关键词
搜索
您的位置
首页
会议论文
与GaN中缺陷相关的室温光荧光谱
与GaN中缺陷相关的室温光荧光谱
来源 :第七届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xynady
【摘 要】
:
利用GaN外延材料表面和界面的室温PL谱,观察并分析了带边峰的结构和与缺陷相关的束缚激子峰。
【作 者】
:
朱建军
刘素英
史永生
杨辉
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所光电工艺中心
【出 处】
:
第七届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
:
2000年10期
【关键词】
:
GaN外延材料
缺陷
室温PL谱
束缚激子峰
下载到本地 , 更方便阅读
下载此文
赞助VIP
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
利用GaN外延材料表面和界面的室温PL谱,观察并分析了带边峰的结构和与缺陷相关的束缚激子峰。
其他文献
Let-7a下调k-Ras和c-Myc癌基因的表达抑制肾癌细胞增殖
目的:MicroRNA是近年发现的一类单链小分子RNA,对它的研究已成为一个新的热点。最近的研究发现,1et-7a在细胞内影响着基因的表达调控,在疾病发生中起着及极重要的作用,尤其是
期刊
癌细胞增殖
Let-7a
c-Myc
k-Ras
KRAS
癌细胞株
c-myc
肾细胞癌
肾癌
肾癌细胞
高质量GaNAs合金的分子束外延生长
会议
GaNAs合金
分子束外延生长
飞速发展的第三代GaN半导体
会议
GaN半导体
GaN材料
六方GaNLED制作工艺技术研究
该文研究了六方GaNLED制作工艺技术,包括P型层的活化技术,反应离子刻蚀技术,P型GaN和N型GaN欧姆接触电极的制备技术等。研制的LED工作电压为3.8伏,亮度大于1cd,达到了实用化的要求
会议
制作
离子刻蚀技术
制备技术
接触电极
活化技术
工作电压
工艺技术
实用化
亮度
Ga-N-C-H体系的热力学分析
该文研究了以三甲基镓(TMGa)和氨(NH)为气源物质、以氢气(H)为载气进行GaN半导体MOVPE外延生长时,NH分解率对于GaN半导体外延生长的成分空间的影响。热力学计算结果表明:随着NH
会议
体系
气相外延生长
分解率
半导体
热力学计算
三甲基镓
外延层
两相区
载气
物质
氢气
气源
空间
金属
解释
GaN材料的RFPlasma MBE生长及掺杂研究
会议
GaN材料
RF Plasma MBE生长
掺杂
AlGaNGaN双异质结HEMT的高温工作性能
描述了AlGaN/GaN双异质结HEMT在室温,300℃和500℃下的工作性能。栅长为1.5-1.75μm、沟道长度为3μm器件的最大漏源电流和非本征跨导在室温下、300℃和500℃下的数值分别为11
会议
GaN材料
双异质结
高温性能
GaN发光二极管发光强度的测量
近来为适应对高亮度可见光发光二极管的研究的需要,该文用照度法求亮度,为了适应人眼对可见光的波长的敏感度,测量光路中加了一个视觉波谱滤光片。测量结果说明,人对蓝光的灵敏度
会议
发光二极管
发光强度
灵敏度
可见光
高亮度
测量结果
测量光路
敏感度
滤光片
视觉
人眼
绿光
蓝光
度法
波谱
波长
调制光反射(MPR)技术用于弱信号检测
会议
调制
光反射
技术
立方相GaN基LED的电化学C-V测量
作者们用电化学C-V的方法测量了MOCVD生长的双异质结结构绿光LED。采用稀盐酸腐蚀液,加正向偏压,边腐蚀边测量。实验完毕,用SEM观察表面和截面情况,发现被腐蚀区域的P-GaN/InGaN/
会议
立方相
电化学
腐蚀速度
双异质结结构
正向偏压
特性分析
晶界
腐蚀区域
导电通道
衬底
测量
稀盐酸
腐蚀液
实验
绿光
截面
方法
堆积
表面
其他学术论文