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本文提出了一种制作衍射光学元件的新方法－－反应离子束蚀刻法，对此技术研究的结果表明，反应离子束蚀刻法具有高蚀刻速率、蚀刻过程各向异性好、蚀刻参数控制灵活等特点，对于衍射光学元件和微光学元件的精细结构制作十分有利，本文详细总结了反应离子束蚀各工艺参数对蚀刻技术的影响，并在红外材料上制作 了Ｄａｍｍａｎｎ分束光栅。