【摘 要】
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运用离子束辅助沉积法（IBAD）制备了一系列具有不同调制比例的TiAlN/TiB2纳米多层膜,利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和纳米压痕等表征手段研究了薄膜调制比例对其硬度、内
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（50872094）, 天津市应用基础及前沿技术研究计划重点项目“以硼化物为主的高硬纳米层或梯度强化膜的设计与合成”（2012）
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运用离子束辅助沉积法（IBAD）制备了一系列具有不同调制比例的TiAlN/TiB2纳米多层膜,利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和纳米压痕等表征手段研究了薄膜调制比例对其硬度、内应力和膜基结合力等力学性质的影响.结果表明：随着调制比例从8∶1变化到25∶1,多层膜的硬度在29～34 GPa之间变化,所有多层膜的硬度均高于TiAlN和TiB2两种各体层材料通过混合法则得的结果,结合XRD结果分析认为,TiAlN（111）择优取向是薄膜硬度升高的一个重要原因.
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