面向等离子体高能合成射流应用的重频脉冲源研制

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等离子体合成射流是高速流场控制的一种重要手段,而高重频、大能量的等离子体合成射流可以产生更好的流动控制效果。为此研制了一台可实现高重频等离子体高能合成射流的脉冲电源,输出参数为:电压幅值0~10k V,重复频率0~1 000 Hz可调,脉宽15μs,放电电流峰值320 A,放电能量超过150 m J。首先,对脉冲源的拓扑结构进行了设计,对其工作原理进行了说明。其次研究了放电电容对于输出波形的影响,并在高重频条件下进行了放电特性和能量特性分析。最后,利用纹影系统观察了射流流场的发展过程。实验结果表明:高重频条件下输出电压稳定性良好;随着放电电容的增大,放电持续时间延长,放电电流增大,放电能量增加;此外,纹影系统观测表明合成射流速度可达150 m/s。该电源可应用于流动控制领域。 Plasma jet synthesis is an important means of high-speed flow field control, and high-frequency, high-energy plasma jet synthesis can produce better flow control. For this reason, a pulsed power supply with high repetition rate plasma high energy synthetic jet was developed. The output parameters are: voltage amplitude 0 ~ 10k V, adjustable repetition frequency 0 ~ 1 000 Hz, pulse width 15μs, peak discharge current 320 A, the discharge energy exceeds 150 m J. First of all, the topology of the pulse generator is designed, and its working principle is described. Secondly, the influence of discharge capacitance on the output waveform was studied. The discharge characteristics and energy characteristics were analyzed under high repetition frequency. Finally, the development of the jet flow field is observed by using the schlieren system. Experimental results show that the output voltage stability is good under high repetition frequency conditions. With the increase of discharge capacity, the discharge duration is extended, the discharge current is increased and the discharge energy is increased. In addition, the observation of the smear system shows that the synthetic jet velocity can reach 150 m / s. The power supply can be applied to the field of flow control.
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