晶硅异质结太阳电池表面三层减反膜的设计与分析

来源 :光学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:renjie1986
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晶硅异质结太阳电池表面的减反层是ITO薄膜,其低的紫外透过率、高的近红外光学损耗限制了电池效率的提升.为此,本文设计了三层减反膜来减小ITO薄膜的光学损耗.利用光学薄膜膜系设计软件TFCalc、光线追迹程序(OPAL 2)和太阳电池模拟软件PC1D对三层减反膜的光学性能和相应电池的电学性能进行了模拟和分析,并对折射率色散效应、晶硅表面形貌以及各膜层的厚度容差进行了讨论.结果表明:考虑折射率色散效应的=层减反膜比ITO薄膜的寄生吸收更小,减反射带宽更大;绒面硅表面减反膜比平面硅表面减反膜的加权平均光学损耗降低了2.43个百分点,相应电池的短路电流密度和转换效率分别提高了0.82 mA/cm2和0.34个百分点;减反膜中低折射率的SiO,膜层具有更大的厚度容差范围.
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