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溅射靶材是磁控溅射制备薄膜的关键原材料,其质量决定着溅射薄膜的性能。贵金属溅射靶材因具有优异的物理和化学性能而广泛应用于高性能薄膜的制备。综述了贵金属溅射靶材制备方法、技术要求和应用情况的研究进展,指出高纯化、大尺寸、高利用率以及靶材生产与溅射镀膜一体化是贵金属靶材未来发展方向。
贵金属溅射靶材的研究进展
【摘 要】
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溅射靶材是磁控溅射制备薄膜的关键原材料,其质量决定着溅射薄膜的性能。贵金属溅射靶材因具有优异的物理和化学性能而广泛应用于高性能薄膜的制备。综述了贵金属溅射靶材制备方法、技术要求和应用情况的研究进展,指出高纯化、大尺寸、高利用率以及靶材生产与溅射镀膜一体化是贵金属靶材未来发展方向。
【机 构】
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贵研铂业股份有限公司稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,昆明贵金属研究所
【出 处】
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机械工程材料
【发表日期】
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2021年8期
【基金项目】
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国家重点研发计划项目(2017YFB0305503),云南省国际合作计划项目(2014IA037),云南省创新团队项目(2019HC024)。
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