【摘 要】
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净化漂移是制备和修复Ge(Li)中的一种重要工艺手段,它可用来改善Ge(Li)的电流-电压特性和电容-电压特性,控制工作时Ge(Li)内部的电场分布以求得到更好的载流子收集以及恢复
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净化漂移是制备和修复Ge(Li)中的一种重要工艺手段,它可用来改善Ge(Li)的电流-电压特性和电容-电压特性,控制工作时Ge(Li)内部的电场分布以求得到更好的载流子收集以及恢复中子辐射给Ge(Li)带来的损伤。这些都可使Ge(Li)的性能特别是能量分辨得到很大提高,又由于净化漂移手续简便,故应用十分广泛。
Purification drift is an important process for preparing and repairing Ge (Li). It can be used to improve the current-voltage characteristic and capacitance-voltage characteristic of Ge (Li) and control the electric field distribution inside Ge (Li) Get better carrier collection and restore the neutron radiation to Ge (Li) damage. All of these can make the performance of Ge (Li), especially the energy resolution is greatly improved, but also because of the purification and drift procedures is simple, it is widely used.
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