【摘 要】
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为研究Ti/Al多层膜的结构和热稳定性与溅射气压的关系,采用对向靶直流磁控溅射法在0.5、2.0 Pa的溅射气压下制备了Ti/Al软X射线光学多层膜（Λ=9.25 nm,Γ=0.3,N=20）,并采用低角
【机 构】
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天津城市建设学院基础学科部,福建工程学院数理系
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为研究Ti/Al多层膜的结构和热稳定性与溅射气压的关系,采用对向靶直流磁控溅射法在0.5、2.0 Pa的溅射气压下制备了Ti/Al软X射线光学多层膜（Λ=9.25 nm,Γ=0.3,N=20）,并采用低角度X射线衍射、高角度X射线衍射和原子力显微镜对其结构和热稳定性进行表征。发现：低溅射气压（0.5 Pa）下制备的多层膜具有相对高质量、有序的结晶层,导致了相对较小的表面粗糙度,热稳定性好;高溅射气压（2.0 Pa）下制备的多层膜周期性结构相对较差,晶向较为无序,表面粗糙度较大,结构热稳定性差。可见,Ti/
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