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1、产品及其简介rn该产品采用气相掺氮技术,即氮气既作为保护气,又通过与硅熔体反应掺入熔体,是硅晶体中氮的来源,解决了气相掺氮掺入量控制的难题.用气相(氮气)直接掺氮,操作简便,成本低廉,但需要用特殊方法精确控制掺入量.
低缺陷掺氮直拉硅单晶抛光片
【摘 要】
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1、产品及其简介rn该产品采用气相掺氮技术,即氮气既作为保护气,又通过与硅熔体反应掺入熔体,是硅晶体中氮的来源,解决了气相掺氮掺入量控制的难题.用气相(氮气)直接掺氮,操
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2007年8期
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