【摘 要】
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A numerical model is developed for the calculation of transient temperature field of thin film coating induced by a long-pulsed high power laser beam. The elect
【机 构】
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School of Science, Nanjing University of Science and Technology,
【出 处】
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Chinese Optics Letters
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A numerical model is developed for the calculation of transient temperature field of thin film coating induced by a long-pulsed high power laser beam. The electric field intensity distribution of HfO2/SiO2 high reflective (HR) film is investigated to calculate the thermal field of the film. The thermal-mechanical relationships are discussed to predict the laser damage area of optical thin film under long pulse high energy laser irradiation.
A numerical model is developed for the calculation of transient temperature field of thin film coating by a long-pulsed high power laser beam. The electric field intensity distribution of HfO2 / SiO2 high reflective (HR) film is investigated to calculate the thermal field of the film. The thermal-mechanical relationships are discussed to predict the laser damage area of optical thin film under long pulse high energy laser irradiation.
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